好色先生TV网站靶材的利用率可成為好色先生TV网站源的工程設計和生產工藝成本核算的一個參數。目前沒有見到對好色先生TV网站靶材利用率專門或係統研究的報道，而從理論上對好色先生TV网站靶材利用率近似計算的探討具有實際意義。對於靜態直冷矩形平麵靶，即靶材與磁體之間無相對運動且靶材直接與冷卻水接觸的靶， 靶材利用率數據多在20%~30%左右(間冷靶相對要高一些，但其被刻蝕過程與直冷靶相同，不作專門討論)，且多為估計值。為了提高靶材利用率，研究出來了不同形式的動態靶，其中以旋轉磁場圓柱靶最著名且在工業上被廣泛應用，據稱這種靶材的利用率可超過70%，但缺少足夠數據或理論證明。常見的好色先生TV网站靶材從幾何形狀上看有三種類型：矩形平麵、圓形平麵和圓柱管 

如何提高利用率是真空好色先生TV网站鍍膜行業的重點,圓柱管靶利用高,但在有些產業是不適用。 

特點 

利用外加磁場捕捉電子，延長和束縛電子的運動路徑，搞高離化率，增加鍍膜速率。 

1)濺射粒子(主要是原子，還有少量離子等)的平均能量達幾個電子伏，比蒸發粒子的平均動能kT高得多(3000K蒸發時平均動能僅0.26eV)，濺射粒子的角分布與入射離子的方向有關。(2)入射離子能量增大(在幾千電子伏範圍內)，濺射率(濺射出來的粒子數與入射離子數之比)增大。入射離子能量再增大，濺射率達到極值；能量增大到幾萬電子伏，離子注入效應增強，濺射率下降。(3)入射離子質量增大，濺射率增大。(4)入射離子方向與靶麵法線方向的夾角增大，濺射率增大(傾斜入射比垂直入射時濺射率大)。(5)單晶靶由於焦距碰撞(級聯過程中傳遞的動量愈來愈接近原子列方向)，在密排方向上發生優先濺射。(6)不同靶材的濺射率很不相同。

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