直流好色先生TV网站法要求靶材能夠將從離子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極，從而該方法隻能濺射導體材料，不適於絕緣材料，因為轟擊絕緣靶材時表麵的離子電荷無法中和，這將導致靶麵電位升高，外加電壓幾乎都加在靶上，兩極間的離子加速與電離的機會將變小，甚至不能電離，導致不能連續放電甚至放電停止，濺射停止。故對於絕緣靶材或導電性很差的非金屬靶材，須用射頻濺射法（RF）。 

濺射過程中涉及到複雜的散射過程和多種能量傳遞過程：首先，入射粒子與靶材原子發生彈性碰撞，入射粒子的一部分動能會傳給靶材原子，某些靶材原子的動能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢壘(對於金屬是5-10eV)，從而從晶格點陣中被碰撞出來，產生離位原子，並進一步和附近的原子依次反複碰撞，產生碰撞級聯。當這種碰撞級聯到達靶材表麵時，如果靠近靶材表麵的原子的動能大於表麵結合能(對於金屬是1-6eV)，這些原子就會從靶材表麵脫離從而進入真空。 

濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表麵，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰極靶由鍍膜材料製成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體，在陰極(靶)1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產生輝光放電。電離出的氬離子轟擊靶表麵，使得靶原子濺出並沉積在基片上，形成薄膜。目前濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、好色先生TV网站、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。 

由於被濺射原子是與具有數十電子伏特能量的正離子交換動能後飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利於提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使製出的薄膜與基片具有強的附著力。 

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