濺射濺射鍍膜

濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表麵，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰極靶由鍍膜材料製成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產生輝光放電。電離出的氬離子轟擊靶表麵，使得靶原子濺出並沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、好色先生TV网站、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。

由於被濺射原子是與具有數十電子伏特能量的正離子交換動能後飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利於提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使製出的薄膜與基片具有強的附著力。

濺射時，氣體被電離之後，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，產生的離子數目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和高氣壓下，盡管可以產生較多的離子，但飛向基片的電子攜帶的能量高，容易使基片發熱甚至發生二次濺射，影響製膜質量。另外，靶材原子在飛向基片的過程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加，因而被散射到整個腔體，既會造成靶材浪費，又會在製備多層膜時造成各層的汙染。

直流好色先生TV网站技術

為了解決陰極濺射的缺陷，人們在20世紀70年代開發出了直流好色先生TV网站技術，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點，因而獲得了迅速發展和廣泛應用。

其原理是：在好色先生TV网站中，由於運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而好色先生TV网站速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜汙染的傾向；另一方麵也提高了入射到襯底表麵的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。因此好色先生TV网站法具有“高速”、“低溫”的優點。該方法的缺點是不能製備絕緣體膜，而且磁控電極中采用的不均勻磁場會使靶材產生顯著的不均勻刻蝕，導致靶材利用率低，一般僅為20%-30%。

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