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真空離子束濺射係統是真空鍍膜設備的一種，它指的是一類需要在一定真空環境下進行的鍍膜。離子鍍膜機的原理和真空鍍膜機的類似，這裏就不多加贅述了。今天，給大家簡單介紹下離子束濺射係統較常使用的離子鍍的類型及特點。
1、電阻加熱或電子束加熱蒸發源
①直流放電二極型
特點：繞射性好，附著性好，基板溫度易上升，膜結構及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板。
②多陰極型
特點：采用低能電子離化效率高，膜層質量可控製。
③射頻放電離子鍍
特點：不純氣體少，成膜好，化合物成膜更好。匹配較困難。
2、電子束加熱蒸發源
①活性反應蒸鍍
特點：蒸鍍效率高，能獲得三氧化二鋁、TiN等薄膜。
②增強的ARE型
特點：易離化，基板所需功率和放電功率能獨立調節，膜層質量、厚度都容易控製。
③低壓等離子鍍
特點：結構簡單能獲得TiC、TiN等化合物鍍層。
④電場蒸發
特點：帶電場的真空蒸鍍，鍍層質量好。
3、等離子電子束
空心陰極放電離子鍍
特點：離比效率高，電子束斑較大，金屬膜、介質膜、化合物膜都能鍍。
