當前標簽:共濺膜製備價格
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設備用途:CKG-60三靶共濺薄膜製備係統金屬和合金薄膜、半導體薄膜、磁性材料薄膜、氧化物和氮化物等電介質薄膜、新型功能薄膜、多層薄膜、多元彌散複合膜的製備。主要配置及特點:主要由不鏽鋼真空室,真空及測量係統,供氣及流量控製係統,多樣品轉台