當前標簽：三靶共濺膜製備
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設備用途：CKG-60三靶共濺薄膜製備係統金屬和合金薄膜、半導體薄膜、磁性材料薄膜、氧化物和氮化物等電介質薄膜、新型功能薄膜、多層薄膜、多元彌散複合膜的製備。主要配置及特點：主要由不鏽鋼真空室，真空及測量係統，供氣及流量控製係統，多樣品轉台
